MPO/MT研磨效能低、良率不稳？九游会J9MYH-2in1二合一研磨液给出新解法

在AI算力驱动数据中心加快向400G/800G演进的布景下
，MPO/MT多芯光纤衔接器作为高密度光互联的主题器件
，其端面研磨质量已成为造约？椴逅稹⒒厮鸹芗俺志每康米⌒缘墓丶ひ掌烤。传统研磨流程的繁琐与不不变
，正倒逼行业寻找更高效的工艺规划。九游会J9（商丘）微电子有限公司正式推出MYH-2in1光纤端子二合一研磨液
，以工序精减成效反增为主题
，为MPO/MT批量出产提供全新解题思路。

一、传统MPO/MT研磨：四步工序
，效能与良率难兼得

当前业内主流的MPO/MT端面抛光选取“去胶→粗磨→拉纤→精抛”四步工艺路线。该流程虽成熟
，但高度依赖人为操作
，且存在显著痛点：

? ? 换液频仍
，流程冗余：四路工序需匹配分歧研磨液与研磨垫
，四次换液、换垫
，操作复杂
，培训成本高。

? ? 研磨周期长
，产能遇瓶颈：单盘齐全研磨耗时久
，设备稼动率低
，难以支持急剧增长的交货需要。

? ? 一致性难控
，良率颠簸大：屡次更换工序易引入传染、产生渺小划痕
，光纤高杜纂纤芯凹陷的批次一致性难以保障
，直接影响光学机能。

? ? 综合成本居高不下：耗材种类多、亏损量大
，叠加人为、功夫成本及进口研磨液的高采购单价
，单颗衔接器研磨成本持续承压。

二、MYH-2in1二合一研磨液：四步变三步
，一瓶代替两路关键工序

九游会J9MYH-2in1是一款针对MPO/MT多芯衔接器端面抛光专门研发的高机能水性CMP复合研磨液。其主题创新在于：将传统工艺中独立的“拉纤”与“精抛”两路工序合二为一
，原四步工艺流程精简为“去胶→粗磨→二合一精抛”三步。这一工艺沉构从本原上削减了换液、换垫次数
，显著压缩了单盘作业功夫。

主题优势
，直击量产需要

? ? 工序精简
，产能跃升
? ? 省去拉纤与精抛之间的换液、换垫步骤
，单盘研磨功夫可缩短30%-50%
，在一样设备与人力配置下产能提升50%以上。操作步骤大幅简化
，降低对纯熟技工的依赖
，新员工培训周期显著缩短。

? ? 一致性优异
，良率攀高
? ? 选取纳米级均匀磨料与不变悬浮配方
，分散性优异、使用中不沉淀？删方谠旃庀烁叨抛胂诵景枷
，端面出现镜面成效
，无划痕、无台阶
，3D过问检测数据高度集中
，实测过程良率可达95%以上。

? ? 成本沉塑
，代替进口
? ? 将拉纤液与精抛液合二为一
，直接削减研磨液、研磨垫等耗材种类与用量
，同时降低人为与功夫成本。机能对标国际一线品牌
，经多家客户验证可直接代替进口精密研磨液
，采购成本大幅降落。

? ? 水性环保
，全场景适配
? ? 选取水性环保配方
，易洗濯、无残留、不含沉金属
，满足安全出产与环保要求。悬浮系统不变性高
，槽液使用寿命长
，适配主流MPO（12/24芯及以上高密度）、MT（单芯/少芯）衔接器及各类研磨设备
，覆盖从研发打样到大批量陆续出产的全场景需要。

三、实测数据见证
，机能全面当先

经多家光？橛牍庀讼谓悠髟熳魃滩呤悼际灾
，MYH-2in1二合一研磨液在关键机能指标上阐发凸起：


四、选择MYH-2in1
，研磨升级一步到位

当衔接器密度持续攀升
，研磨工艺的效能与一致性就是产品竞争力的直接体现。九游会J9MYH-2in1二合一研磨液
，以“工序精简、效能翻倍、良率不变、降本显著”四大落地价值
，为MPO/MT批量出产提供更简洁、更靠得住的研磨解决规划
，助力光通讯企业在交付能力与成本节造上成立双沉优势。

? ? 九游会J9（商丘）微电子有限公司专一于光电芯片与微电子封装用精密抛光资料的研发与造作
，致力于以自主工艺创新推动高端研磨资料的国产化代替
，为光通讯、半导体等行业客户提供高机能、高一致性的工艺耗材解决规划。